Encoder system calibration method, object positioning system, lithographic apparatus and device device manufacturing method
WO2016030090
Art A1
3. März 2016
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016030090
- Aktenzeichen
- EP15742000
- Anmeldetag
- 23. Juli 2015
- Veröffentlichung
- 3. März 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01D5/244G01D18/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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