Etching mask, manufacturing method therefor, porous membrane manufacturing method using etching mask, porous membrane, fine dust-blocking mask including porous membrane, and manufacturing method for surface enhanced raman scattering active substrate

WO2016032270 Art A1 3. März 2016

Anmelder: Pusan National University Industry - University Cooperation Foundation 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016032270
Aktenzeichen: EP15835650
Anmeldetag: 28. August 2015
Veröffentlichung: 3. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: B01D69/00B01D67/00B01J19/00C08J9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Pusan National University Industry - University Cooperation Foundation
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Pusan National University Industry-University Cooperation Foundation

Die Pusan National University Industry-University Cooperation Foundation ist die Transfereinrichtung einer südkoreanischen staatlichen Universität. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik sowie Mess-, Halbleiter- und Kunststofftechnik, ergänzt durch organische Chemie. Die Anmeldungen von 2002 bis 2025 betreffen unter anderem Sensoren für Nanokunststoffe und Kristallzuchtverfahren.

293 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von