Method of measuring a property of a target structure, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method

WO2016034428 Art A2 10. März 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016034428
Aktenzeichen: EP15754185
Anmeldetag: 20. August 2015
Veröffentlichung: 10. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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