Sputtering Target
WO2016035415
Art A1
10. März 2016
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016035415
- Aktenzeichen
- EP15837455
- Anmeldetag
- 16. Juni 2015
- Veröffentlichung
- 10. März 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C22C5/04C22C19/07C22C32/00G11B5/851
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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