Oxide semiconductor thin film of thin film transistor, thin film transistor and sputtering target

WO2016035554 Art A1 10. März 2016

Anmelder: Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.) 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016035554
Aktenzeichen: EP15837236
Anmeldetag: 19. August 2015
Veröffentlichung: 10. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/786C04B35/00C04B35/457C23C14/08C23C14/34H01L21/336H01L21/363

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.)
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kobe Steel

Japanischer Mischkonzern mit Sitz in Kobe, gegründet 1905. Tätigkeitsfelder umfassen Stahl- und Aluminiumerzeugnisse, Maschinenbau sowie Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von