Magnetic structure, inductance element, method for manufacturing inductance element, substrate having built-in electrode, method for manufacturing substrate having built-in electrode, interposer, shield substrate, and module
WO2016035818
Art A1
10. März 2016
Anmelder: Rohm Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016035818
- Aktenzeichen
- EP15837414
- Anmeldetag
- 2. September 2015
- Veröffentlichung
- 10. März 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01F17/04H01F27/36
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Rohm Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Rohm
Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).
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