Magnetic structure, inductance element, method for manufacturing inductance element, substrate having built-in electrode, method for manufacturing substrate having built-in electrode, interposer, shield substrate, and module

WO2016035818 Art A1 10. März 2016

Anmelder: Rohm Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2016035818
Aktenzeichen
EP15837414
Anmeldetag
2. September 2015
Veröffentlichung
10. März 2016
Rechtsraum
WO
IPC
H01F17/04H01F27/36
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Rohm Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Rohm

Japanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kyoto, spezialisiert auf integrierte Schaltkreise, diskrete Halbleiterbauelemente und Leistungshalbleiter (unter anderem Siliziumkarbid-Bauteile).

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