Resin composition for temporary fixation, resin film for temporary fixation, resin film sheet for temporary fixation, and method for working semiconductor wafer
WO2016035821
Art A1
10. März 2016
Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016035821
- Aktenzeichen
- EP15838322
- Anmeldetag
- 2. September 2015
- Veröffentlichung
- 10. März 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/02C08G59/32C08G59/50C09J4/02C09J7/00C09J11/06C09J133/04C09J163/00C09J183/04C09J201/00H01L21/304H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Company, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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