Device for monitoring a radiation source, radiation source, method of monitoring a radiation source, device manufacturing method

WO2016037786 Art A1 17. März 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016037786
Aktenzeichen: EP15750410
Anmeldetag: 11. August 2015
Veröffentlichung: 17. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N27/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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