Verfahren zum Herstellen einer Maske für den Extrem Ultra-Violetten Wellenlängenbereich, Maske und Vorrichtung

WO2016037851 Art A1 17. März 2016

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016037851
Aktenzeichen: EP15763222
Anmeldetag: 26. August 2015
Veröffentlichung: 17. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/22G03F1/72G03F1/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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