Negative-tone resist compositions and multifunctional polymers therein

WO2016038476 Art A1 17. März 2016

Anmelder: International Business Machines Corporation, SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016038476
Aktenzeichen: EP15839554
Anmeldetag: 24. Juli 2015
Veröffentlichung: 17. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: International Business Machines Corporation
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

12.062 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.655 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von