System and method for automatic gas optimization in a two-chamber gas discharge laser system

WO2016039934 Art A1 17. März 2016

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016039934
Aktenzeichen: EP15840030
Anmeldetag: 14. August 2015
Veröffentlichung: 17. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/23H01S3/225H01S3/036

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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