Cobalt deposition selectivity on copper and dielectrics
WO2016040077
Art A1
17. März 2016
Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016040077
- Aktenzeichen
- EP15840027
- Anmeldetag
- 3. September 2015
- Veröffentlichung
- 17. März 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/28H01L21/203
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Entegris, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Entegris
US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.
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