Exhaust treatment device, substrate treatment system, and method for treating exhaust

WO2016043053 Art A1 24. März 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016043053
Aktenzeichen: EP15841158
Anmeldetag: 2. September 2015
Veröffentlichung: 24. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: B01D53/68B01D53/44B01D53/58

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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