Radiation-sensitive resin composition and resist pattern formation method

WO2016043169 Art A1 24. März 2016

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016043169
Aktenzeichen: EP15841856
Anmeldetag: 14. September 2015
Veröffentlichung: 24. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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