Sputtering target for magnetic recording film formation and production method therefor

WO2016047236 Art A1 31. März 2016

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016047236
Aktenzeichen: EP15844759
Anmeldetag: 7. Juli 2015
Veröffentlichung: 31. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F1/00B22F3/14C22C5/04G11B5/851C22F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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