Substrate processing method, computer storage medium and substrate processing system

WO2016047493 Art A1 31. März 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016047493
Aktenzeichen: EP15845236
Anmeldetag: 15. September 2015
Veröffentlichung: 31. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027C23C14/10C23C14/34C23C16/14C23C16/34G03F7/40H01L21/31H01L21/316H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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