Sputtering target for magnetic recording film formation and production method therefor

WO2016047578 Art A1 31. März 2016

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016047578
Aktenzeichen: EP15844820
Anmeldetag: 18. September 2015
Veröffentlichung: 31. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C5/04C22C38/00G11B5/65G11B5/851H01F10/14H01F41/18B22F3/14B22F3/15

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

1.069 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von