Method of designing a conductive pattern with reduced channel break visibility

WO2016048320 Art A1 31. März 2016

Anmelder: Eastman Kodak Company 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016048320
Aktenzeichen: EP14902492
Anmeldetag: 25. September 2014
Veröffentlichung: 31. März 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G06F3/041

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Eastman Kodak Company
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Eastman Kodak

US-amerikanisches Unternehmen mit Sitz in Rochester (New York), traditionell führend in Fotografie- und Bildgebungstechnik. Aktiv in Drucktechnologien, Filmmaterialien sowie chemischer und optischer Bildverarbeitung.

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Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

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