High numerical aperture objective lens system

WO2016050383 Art A1 7. April 2016

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016050383
Aktenzeichen: EP15742308
Anmeldetag: 29. Juli 2015
Veröffentlichung: 7. April 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G02B21/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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