Semiconductor single crystal pulling apparatus and method for remelting semiconductor single crystal using same
WO2016051682
Art A1
7. April 2016
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016051682
- Aktenzeichen
- EP15847421
- Anmeldetag
- 9. September 2015
- Veröffentlichung
- 7. April 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B15/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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