Master alloy for sputtering target and method for manufacturing sputtering target

WO2016052371 Art A1 7. April 2016

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016052371
Aktenzeichen: EP15846764
Anmeldetag: 28. September 2015
Veröffentlichung: 7. April 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C5/04C22C14/00C22C19/03C22C19/07C22C22/00C22C27/00C22C27/02C22C27/04C22C27/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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