Tungsten sputtering target and method for producing same

WO2016052380 Art A1 7. April 2016

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016052380
Aktenzeichen: EP15846104
Anmeldetag: 28. September 2015
Veröffentlichung: 7. April 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F1/00C22C27/04H01L21/28H01L21/285B22F3/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von