Overlay feature design and method for application in wafer fabrication

WO2016060545 Art A1 21. April 2016

Anmelder: Mimos Berhad 🇲🇾

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016060545
Aktenzeichen: EP15850820
Anmeldetag: 6. Oktober 2015
Veröffentlichung: 21. April 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/38G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Mimos Berhad
Land: 🇲🇾 Malaysia

🇲🇾 Mimos Berhad

Malaysisches staatliches Forschungsinstitut für Informations- und Kommunikationstechnologie mit Sitz in Kuala Lumpur. Die Patente decken Halbleitertechnik, Mikroelektronik und IT-Sicherheit ab.

929 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von