Liquid treatment method for substrates, liquid treatment device for substrates, and computer-readable storage medium for storing liquid treatment program for substrates

WO2016063886 Art A1 28. April 2016

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016063886
Aktenzeichen: EP15852330
Anmeldetag: 20. Oktober 2015
Veröffentlichung: 28. April 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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