Iterative Defect Filtering Process

WO2016064547 Art A1 28. April 2016

Anmelder: Applied Materials, Inc., Applied Materials Israel Ltd. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016064547
Aktenzeichen: EP15853232
Anmeldetag: 30. September 2015
Veröffentlichung: 28. April 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G06K9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Applied Materials, Inc.
Applied Materials Israel Ltd.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

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