Manufacturing method for low-temperature polycrystalline silicon and manufacturing method for thin film transistor (tft) substrate

WO2016065768 Art A1 6. Mai 2016

Anmelder: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016065768
Aktenzeichen: EP15855474
Anmeldetag: 6. Februar 2015
Veröffentlichung: 6. Mai 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 China Star Optoelectronics (CSOT)

Chinesischer Displayhersteller mit Sitz in Shenzhen, Tochtergesellschaft des TCL-Konzerns. CSOT entwickelt und produziert LCD- und OLED-Panels für Fernseher, Monitore und mobile Endgeräte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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