Sputtering target alloy and sputtering target comprising same

WO2016068562 Art A1 6. Mai 2016

Anmelder: Korea Institute Of Industrial Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016068562
Aktenzeichen: EP15855695
Anmeldetag: 27. Oktober 2015
Veröffentlichung: 6. Mai 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C16/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Korea Institute Of Industrial Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea Institute of Industrial Technology

Das Korea Institute of Industrial Technology (KITECH) ist eine südkoreanische staatliche Forschungseinrichtung für angewandte Industrietechnik. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Fertigungs- und Drucktechnik sowie Metallurgie und Halbleitertechnik, ergänzt durch Verfahrenstechnik. Anmeldungen sind von 2002 bis in die Gegenwart belegt.

688 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von