Plasma cathode charged particle lithography system

WO2016068932 Art A1 6. Mai 2016

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016068932
Aktenzeichen: EP14904940
Anmeldetag: 30. Oktober 2014
Veröffentlichung: 6. Mai 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/34H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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