Ion implantation processes and apparatus

WO2016069516 Art A1 6. Mai 2016

Anmelder: Entegris, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016069516
Aktenzeichen: EP15853949
Anmeldetag: 27. Oktober 2015
Veröffentlichung: 6. Mai 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01J27/02H01J37/08H01J37/317H01L21/265

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Entegris, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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