Resist underlayer film-forming composition including polymer provided with arylene groups

WO2016072316 Art A1 12. Mai 2016

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016072316
Aktenzeichen: EP15856867
Anmeldetag: 27. Oktober 2015
Veröffentlichung: 12. Mai 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G61/00C08G61/12G03F7/004G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von