Ito sputtering target and method for manufacturing same, ito transparent electroconductive film, and method for manufacturing ito transparent electroconductive film

WO2016072441 Art A1 12. Mai 2016

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2016072441
Aktenzeichen
EP15856447
Anmeldetag
5. November 2015
Veröffentlichung
12. Mai 2016
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/34C04B35/00C23C14/08H01B5/14H01B13/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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