Method and device for simulating particle etching or depositional evolution, and computer readable medium

WO2016074202 Art A1 19. Mai 2016

Anmelder: Tsinghua University 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2016074202
Aktenzeichen
EP14906075
Anmeldetag
13. November 2014
Veröffentlichung
19. Mai 2016
Rechtsraum
WO
IPC
G06F17/50
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Tsinghua University
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Tsinghua University

Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.

1.696 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen