Method and device for simulating particle etching or depositional evolution, and computer readable medium
WO2016074202
Art A1
19. Mai 2016
Anmelder: Tsinghua University 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016074202
- Aktenzeichen
- EP14906075
- Anmeldetag
- 13. November 2014
- Veröffentlichung
- 19. Mai 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06F17/50
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tsinghua University
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Tsinghua University
Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.
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