Charged particle beam apparatus, electron microscope and sample observation method

WO2016075759 Art A1 19. Mai 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016075759
Aktenzeichen: EP14905975
Anmeldetag: 11. November 2014
Veröffentlichung: 19. Mai 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/16H01J37/18H01J37/20H01J37/22

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von