Semiconductor device and manufacturing method therefor, and resin composition for forming flexible resin layer
WO2016080346
Art A1
26. Mai 2016
Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016080346
- Aktenzeichen
- EP15861559
- Anmeldetag
- 16. November 2015
- Veröffentlichung
- 26. Mai 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/56H01L25/04H01L25/18H05K3/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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Vertreten von
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