Cmp slurry composition for organic film and polishing method using same
WO2016080614
Art A1
26. Mai 2016
Anmelder: Samsung SDI Co., Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016080614
- Aktenzeichen
- EP15860105
- Anmeldetag
- 10. Juni 2015
- Veröffentlichung
- 26. Mai 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09K3/14H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Samsung SDI Co., Ltd.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Samsung SDI
Südkoreanisches Unternehmen der Samsung-Gruppe, das Batterien und Energiespeichersysteme für Elektrofahrzeuge, Elektronikgeräte und stationäre Anwendungen entwickelt und produziert.
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Vertreten von
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