Oxide sintered compact, sputtering target, and oxide semiconductor thin film obtained using same

WO2016084636 Art A1 2. Juni 2016

Anmelder: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016084636
Aktenzeichen: EP15863512
Anmeldetag: 16. November 2015
Veröffentlichung: 2. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C04B35/00C23C14/08C23C14/34C23C14/58H01L21/203H01L21/363

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Metal Mining

Sumitomo Metal Mining ist ein japanisches Unternehmen des Sumitomo-Konzerns, das Metalle wie Kupfer, Nickel und Gold fördert und verarbeitet sowie Batteriematerialien herstellt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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