Aqueous dispersion for chemical mechanical polishing, and chemical mechanical polishing method
WO2016084682
Art A1
2. Juni 2016
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016084682
- Aktenzeichen
- EP15864285
- Anmeldetag
- 18. November 2015
- Veröffentlichung
- 2. Juni 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B24B37/00C09K3/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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