Low surface energy photoresist composition and process

WO2016085902 Art A1 2. Juni 2016

Anmelder: E. I. du Pont de Nemours and Company 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016085902
Aktenzeichen: EP15863810
Anmeldetag: 24. November 2015
Veröffentlichung: 2. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: E. I. du Pont de Nemours and Company
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 DuPont

US-amerikanischer Chemie- und Materialkonzern mit Sitz in Wilmington, Delaware. DuPont entwickelt Spezialchemikalien, Polymere, Elektronikmaterialien sowie Werkstoffe für Industrie, Bauwesen, Elektronik und Gesundheitswesen.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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