Verstellsystem-Bauelement, Baugruppe, Spiegelanordnung und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
WO2016087565
Art A1
9. Juni 2016
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016087565
- Aktenzeichen
- EP15804487
- Anmeldetag
- 3. Dezember 2015
- Veröffentlichung
- 9. Juni 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B7/182G02B26/08G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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