Photosensitive composition for forming resist underlayer film, and resist underlayer film

WO2016088515 Art A1 9. Juni 2016

Anmelder: DIC Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016088515
Aktenzeichen: EP15866242
Anmeldetag: 10. November 2015
Veröffentlichung: 9. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C07C39/16C08G8/00H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: DIC Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 DIC Corporation

DIC Corporation ist ein japanischer Chemiekonzern (früher Dainippon Ink and Chemicals) mit Schwerpunkt auf Druckfarben, Pigmenten und organischen Feinchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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