Wafer support, chemical vapor phase growth device, epitaxial wafer and manufacturing method therefor
WO2016088671
Art A1
9. Juni 2016
Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2016088671
- Aktenzeichen
- EP15865562
- Anmeldetag
- 27. November 2015
- Veröffentlichung
- 9. Juni 2016
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/205C23C16/42C23C16/458C23C16/52C30B25/12C30B29/36H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Showa Denko K.K.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Showa Denko
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.
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