Method for forming self-assembled film, method for forming pattern, and composition for forming self-assembled film

WO2016088785 Art A1 9. Juni 2016

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016088785
Aktenzeichen: EP15865953
Anmeldetag: 1. Dezember 2015
Veröffentlichung: 9. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: B05D7/24B82Y40/00H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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