System and method for isolating gain elements in a laser system

WO2016089549 Art A1 9. Juni 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016089549
Aktenzeichen: EP15865550
Anmeldetag: 6. November 2015
Veröffentlichung: 9. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G02F1/11H01S3/08H01S3/082

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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