Methods and apparatus for calculating substrate model parameters and controlling lithographic processing

WO2016091529 Art A1 16. Juni 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016091529
Aktenzeichen: EP15794550
Anmeldetag: 12. November 2015
Veröffentlichung: 16. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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