Defect observation device and defect observation method

WO2016092640 Art A1 16. Juni 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016092640
Aktenzeichen: EP14907659
Anmeldetag: 10. Dezember 2014
Veröffentlichung: 16. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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