Electron beam evaporation source and vacuum deposition device

WO2016092788 Art A1 16. Juni 2016

Anmelder: ULVAC, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016092788
Aktenzeichen: EP15867410
Anmeldetag: 4. Dezember 2015
Veröffentlichung: 16. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/30H01J37/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

1.137 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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