Resist underlayer film forming composition for lithography containing hydrolyzable silane having halogen-containing carboxylic acid amide group

WO2016093172 Art A1 16. Juni 2016

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016093172
Aktenzeichen: EP15866712
Anmeldetag: 4. Dezember 2015
Veröffentlichung: 16. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G77/26G03F7/26H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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