Stage device and charged particle beam device employing same

WO2016093185 Art A1 16. Juni 2016

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016093185
Aktenzeichen: EP15866960
Anmeldetag: 7. Dezember 2015
Veröffentlichung: 16. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20G03F7/20H01L21/68H02K41/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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