Method and apparatus for using patterning device topography induced phase

WO2016096361 Art A1 23. Juni 2016

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016096361
Aktenzeichen: EP15800859
Anmeldetag: 26. November 2015
Veröffentlichung: 23. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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