Substrate for mask blank, mask blank, methods for manufacturing substrate for mask blank and mask blank, method for manufacturing transfer mask, and method for manufacturing semiconductor device

WO2016098452 Art A1 23. Juni 2016

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2016098452
Aktenzeichen: EP15869660
Anmeldetag: 26. Oktober 2015
Veröffentlichung: 23. Juni 2016
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/60C03C17/36G03F1/24G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik

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